Ваш любимый книжный интернет-магазин
Перейти на
GlavKniga.SU
Ваш город: Алматы
Ваше местоположение – Алматы
 Да 
От вашего выбора зависит время и стоимость доставки
Корзина: пуста
Авторизация 
  Логин
  
  Пароль
  
Регистрация  Забыли пароль?

Поиск по каталогу 
(строгое соответствие)
ISBN
Фраза в названии или аннотации
Автор
Язык книги
Год издания
с по
Электронный носитель
Тип издания
Вид издания
Отрасли экономики
Отрасли знаний
Сферы деятельности
Надотраслевые технологии
Разделы каталога
худ. литературы

P-Type ZnO as Multifunctional Material for Optoelectronic Devices.

В наличии
Местонахождение: АлматыСостояние экземпляра: новый
Бумажная
версия
Автор: L. P. Purohit and Trilok Pathak
ISBN: 9783659795756
Год издания: 2015
Формат книги: 60×90/16 (145×215 мм)
Количество страниц: 124
Издательство: LAP LAMBERT Academic Publishing
Цена: 32741 тг
Положить в корзину
Позиции в рубрикаторе
Сферы деятельности:
Код товара: 152876
Способы доставки в город Алматы *
комплектация (срок до отгрузки) не более 2 рабочих дней
Самовывоз из города Алматы (пункты самовывоза партнёра CDEK)
Курьерская доставка CDEK из города Москва
Доставка Почтой России из города Москва
      Аннотация: ZnO is one of the most important members of transparent conductive oxide (TCO) materials. ZnO forms a technologically important class of material, exhibiting exceptional UV attenuation characteristics, blocking 95% of all UV radiation.Since the bandgap of ZnO is well above the visible region, prepared film are electrically conductive, which is leading to application for transparent p-n junction devices. ZnO naturally shows n-type conductivity due to a large number of native defects, such as oxygen vacancies and zinc interstitials, which leads to difficulty in achieving p- type ZnO thin films. The difficulty in the formation of p-type ZnO material is due to its self compensation effect, deep accepter level and low solubility of accepter dopants. Generally, realization of ZnO thin film p-type conductivity may be possible by substituting group-I elements (Li, Na, K and Ag) for Zn sites, or group-V elements (N, P, As, Sb) for O sites, or substituting group-III and V elements simultaneously for Zn and O sites respectively.
Ключевые слова: thin film, Oxide material, Deposition method, Characterization technique, ZnO application