Поиск по каталогу |
(строгое соответствие)
|
- Профессиональная
- Научно-популярная
- Художественная
- Публицистика
- Детская
- Искусство
- Хобби, семья, дом
- Спорт
- Путеводители
- Блокноты, тетради, открытки
Performance Enhancement of SRAM FINFET using different Gate materials.
В наличии
Местонахождение: Алматы | Состояние экземпляра: новый |
Бумажная
версия
версия
Автор: Manikandan Murugesan,Seethalakshmi Vijaykumar and Saranya Govindarajan
ISBN: 9786202094283
Год издания: 2017
Формат книги: 60×90/16 (145×215 мм)
Количество страниц: 52
Издательство: LAP LAMBERT Academic Publishing
Цена: 20988 тг
Положить в корзину
Позиции в рубрикаторе
Отрасли экономики:Код товара: 181640
Способы доставки в город Алматы * комплектация (срок до отгрузки) не более 2 рабочих дней |
Самовывоз из города Алматы (пункты самовывоза партнёра CDEK) |
Курьерская доставка CDEK из города Москва |
Доставка Почтой России из города Москва |
Аннотация: This book describes the SRAM design concept in FinFET technologies using unique features of non-planar double-gated devices. The parameter space required to design FinFETs will be explored. Variety of SRAM design techniques will be presented exploiting the advantages of tied gate and independent gate controlled configurations. SRAM performance, power, and stability for FinFET devices are compared with conventional planar CMOS counterparts. Modeling the variability of FinFETs through statistics will be presented as well. The MOSFET device was compared with both Poly silicon and Molybdenum as gate material and the FinFET device was designed with different gate materials like Gold, Tungsten, Tantalum and Molybdenum and results were compared with Poly silicon gate material devices.
Ключевые слова: FinFET, ion, SNM, SRAM, Ioff, Gate materials