Поиск по каталогу |
(строгое соответствие)
|
- Профессиональная
- Научно-популярная
- Художественная
- Публицистика
- Детская
- Искусство
- Хобби, семья, дом
- Спорт
- Путеводители
- Блокноты, тетради, открытки
Growth of Thin Film Materials through Electrical Discharge. Exploring Innovative Techniques
В наличии
Местонахождение: Алматы | Состояние экземпляра: новый |
Бумажная
версия
версия
Автор: Abdelkader Bouazza
ISBN: 9786205524312
Год издания: 1905
Формат книги: 60×90/16 (145×215 мм)
Количество страниц: 108
Издательство: Scholars' Press
Цена: 37498 тг
Положить в корзину
Способы доставки в город Алматы * комплектация (срок до отгрузки) не более 2 рабочих дней |
Самовывоз из города Алматы (пункты самовывоза партнёра CDEK) |
Курьерская доставка CDEK из города Москва |
Доставка Почтой России из города Москва |
Аннотация: A thin film refers to a layer or multiple layers of material with a thickness ranging from nanometers (referred to as monolayers) to several micrometers. It is known as a multilayer structure when multiple thin films are stacked together. Thin films are deposited onto a substrate for various purposes, including substrate protection, altering its visual appearance for decorative purposes, modifying the substrate's optical or electrical properties, and more. The process of thin film deposition holds significant importance in numerous applications. It involves applying a thin layer of any substance onto a surface, be it a substrate or already deposited layers. Depending on the process's dominant physical or chemical nature, deposition techniques can be broadly categorized into two groups. This presentation will discuss the most widely used techniques in this field.
Ключевые слова: thin films, deposition, PVD, Monte Carlo
Похожие издания
Отрасли экономики: Промышленность в целом Safia Anjum and Shahid Rafique Growth of Nano-structured Thin Films of Magnetic Materials. Growth of Thin Films. 2015 г., 128 стр., мягкий переплет This project is aimed to deposit magnetic thin films by Pulsed Laser Deposition (PLD) technique. A KrF Excimer laser (248 nm, 20 ns) operated at 20 Hz was used as an energy source for the deposition. Films are deposited under various deposition conditions, like substrate temperature, oxygen pressure, post annealing and applied external magnetic... | 35304 тг |